Ⅲ族氮化物半导体材料中位错成像的测试　透射电子显微镜法

Test method for dislocation imaging in Ⅲ-nitride semiconductor materials—Transmission electron microscopy

标准介绍

本文件描述了用透射电子显微镜测试Ⅲ族氮化物半导体材料中位错成像的方法。本文件适用于六方晶系Ⅲ族氮化物半导体的薄膜或体单晶中位错成像的测试。

提出部门

全国半导体设备和材料标准化技术委员会(SAC/TC 203)、全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会(SAC/TC 203/SC 2)

发布部门

国家市场监督管理总局、国家标准化管理委员会