Determination of wavefront aberration in optical systems—Electro-optical Shack-Hartmann method
本文件描述了采用夏克-哈特曼法测量光学系统波前像差的原理及方法、测量条件、设备及装置、测量步骤以及测量数据处理。
本文件适用于采用夏克-哈特曼法测量光学系统波前像差的测量,也适用于光学零件面形偏差的测量。
中国科学院
国家市场监督管理总局、国家标准化管理委员会
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