表面化学分析　二次离子质谱　用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度

Surface chemical analysis—Secondary-ion mass spectrometry—Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials

标准介绍

本文件详细说明了用标定的均匀掺杂物质（用注入硼的参考物质校准）确定单晶硅中硼的原子浓度的二次离子质谱方法。它适用于均匀掺杂硼浓度范围从1×1016 atoms/cm3～1×1020 atoms/cm3。

提出部门

全国表面化学分析标准化技术委员会(SAC/TC 608)

发布部门

国家市场监督管理总局、国家标准化管理委员会