微束分析　扫描电子显微术　CD-SEM评定关键尺寸的方法

Microbeam analysis—Scanning electron microscopy—Method for evaluating critical dimensions by CD-SEM

标准介绍

本文件规定了基于模型数据库(MBL)方法通过测长扫描电子显微镜(CD-SEM)成像来测定晶圆和光掩膜的关键尺寸(CD)值所需的结构模型、相关参数、文件格式和拟合程序。
本文件适用于试样的线宽测定，如晶圆上的栅极、光掩膜、单个孤立或密集排列的线特征图案，最小达10 nm。

提出部门

全国微束分析标准化技术委员会(SAC/TC 38)

发布部门

国家市场监督管理总局、国家标准化管理委员会